Erfolg auf führender Konferenz im Bereich Siliziummaterialien und- technologien in Japan
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IHP-Wissenschaftler Dr. Dawid Kot mit dem Young Researcher Poster Award ausgezeichnet
Dr. Dawid Kot vom IHP – Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik erhielt den Young Researcher Poster Award beim „Forum on the Science and Techno-logy of Silicon Materials 2018“ in Okayama, Japan. Er wurde für seine Präsen-tation der gemeinsamen Publikation mit dem Münchner Unternehmen Siltro-nic zur Bildung von Komplexen von Gitterfehlstellen mit Sauerstoff bei sehr hohen Temperaturen, die er sowohl experimentell untersucht als auch theore-tisch modelliert hat, ausgezeichnet. Siltronic zählt zu den führenden Anbietern von Siliziumwafern weltweit und seit vielen Jahren Kooperationspartner des IHP. Mit dem Preis werden drei Aspekte der Präsentation honoriert: die Publi-kation selbst, die mündliche Präsentation der Publikation und das Poster zu der Publikation. Die Preisträger wurden von führenden Wissenschaftlern aus-gewählt.
Dawid Kot arbeitet seit 2007 am IHP und forscht im Bereich Defektkontrolle und Gettern von Siliziummaterialien. In diesem Bereich ist das vom 145. Ko-mitee für die Verarbeitung und Charakterisierung von Kristallen der Japani-schen Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaft (JSPS) organisierte Forum eine der führenden Konferenzen weltweit und bringt internationale Wissen-schaftler und Wissenschaftlerinnen sowie junge Forschende zu Siliziummate-rialien alle vier Jahre zusammen. Das Gremium entwickelt neue Verarbei-tungs- und Charakterisierungstechnologien und bietet Forschenden Foren zur Interaktion, um zu Verbesserungen in Bezug auf das Wachstum von Silizium- und Verbundhalbleiterkristallen und bei Wafertechnologien beizutragen.
Contact for scientific information:
Dr. Dawid Kot
More information:
http://www.jsps.go.jp/english/
http://www.ec.okayama-u.ac.jp/~dm/siforum/English/home.html
https://www.siltronic.com/de/
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